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    电镀设备

    应用于双大马士革电镀工艺

    QY千亿(国际)上海多阳极局部电踱设备应用千55/40/28和28纳米以下的大马士革铜金属层沉积。

    电镀设备

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    主要优势

    脉冲局部电镀技术

    适用于超薄种子层

    高产能

    独立模块设计

    低耗材成本COC和运行成本COO







    特性和规格

    设备应用于300毫米晶圆

    最多可配至3个Load Port

    最多可配至4个电镀腔体配备脉冲局部电镀功能

    最多可配至4 个清洗腔体

    最多可配至8个退火腔体

    电镀均一性:
    　　　　　WIWNU  < 1.5%
    　　　　　WTWNU < 1.5%